PVD真空鍍膜

真空離子鍍膜其實是我們所說的PVD的一種，具體原理是在真空條件下，採用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發，這時被蒸發物質與氣體都發生電離。再利用電場的加速作用，讓被蒸發物質及其反應物沉積在工件上。

滿益金的真空離子鍍膜技術是一種能夠真正獲得微米級鍍層且無汙染的環保型表面處理方法，因此鍍膜可以完全符合RoHS之要求，甚至可用於食用器具的鍍膜。我們的鍍膜技術能產生各種單一金屬膜（特別是鈦、鋯、鉻和黃金等）、氮化物膜（TiN、ZrN、CrN、TiAIN）、碳化物膜（TiCN、TiCN），以及氧化物膜（如TiO等）。

目前滿益金公司已經擁有多台世界上最先進，性能最可靠的真空離子鍍膜設備及生產線，並且努力拓展真空功能鍍膜技術及設備、發展全台第一套大型1500mmX1800mm HIPIMS系統（高功率脈衝磁控濺射）。所有機器及輔助設備均由國內外知名供應商提供，並且配備微機控制系統及專業操作人員。在色彩方面我們的膜層顏色有深金黃色、淺金黃色、咖啡色、古銅色、黑色、灰黑色、七彩色等，並且可以根據客戶的不同要求，更改相應參數，調整鍍膜色彩的色度。